一、ue模型不受贴画影响

亲你好，材质预览窗口中旋转光照：L+左键（在材质预览窗口中）

旋转天空壳：K+左键

**粘贴节点：Ctrl+W

一、贴图规格设置

1、贴图尺寸规范

官方推荐贴图尺寸为：2的N次幂

如：256X256、512X512、256X512。。。。。。。

为什么要这样做呢：贴图也是有LOD的，场景远处的物件贴图会以低分辨率显示，降低硬件损耗。看下图Mip数量（贴图的LOD）。

查看贴图相关信息：

打开贴图细节面板：双击贴图打开。

天空盒贴图

为了保留天空盒的清晰度，需要把Mip关闭。

2、颜色贴图

不带Alpha的颜色贴图必须是8位数RGB颜色贴图。

带Alpha的贴图是32位数的RGB颜色贴图。

如果在UE4里，发现颜色贴图泛白，那么颜色贴图是16位数的。改成8位数就正常了（从SP、SD里导出贴图时注意设置）。

如果贴图颜色还是泛白。可以在PS软件里面新建一个文件，把颜色贴图**进去，然后另存一张贴图颜色。用这张贴图就行了。

4、材质属性贴图

包括Metallic（金属度）、Roughness（粗糙度）贴图

灰度贴图必须关闭GRB选项。

5、法线贴图

UE4支持Directx的法线贴图。

OpenGL的法线贴图需要反转法线绿色通道（G通道）。

法线贴图必须关闭GRB选项。

二、常用算法（加减乘除）

乘法节点：Multipiy

M+左键（在材质蓝图面板里使用）

加法节点：Add

A+左键

除法节点：Divide

D+左键

减法节点：Subtract

三、UV缩放、平铺、移动、旋转

旋转UV

节点：Rotator（旋转）表达式以双通道矢量值形式输出 UV纹理坐标，该矢量值可用来创建旋转纹理。

AppendVector（追加矢量）

二、贴图效果调节（蓝图）

1、法线贴图强度调节

2、AO贴图强度调节

3、贴图亮度调节

4、去饱和度（Desaturation）

上图来自官方文档

三、各种材质制作

1、透明材质

推荐看看官方文章《UE4透明材质的理解和应用》

-基础玻璃材质

-玻璃杯材质

-半透明材质渲染排序

在关卡场景里选择使用半透明材质的物件，在物件细节面板的渲染下面设置。

-使相机光圈（焦距、景深）影响半透明材质

在材质细节面板里关闭材质属性的【景深后渲染】

2、自发光材质

-把自发光模型当静态灯光用

选择关卡场景里的自发光模型，在细节面板里勾选【使用静态光照的自发光】

注意：

自发光强度要够强。

在【世界场景设置】里提高【间接光照反射次数】。

烘培光照贴图之后才能看到效果。

3、Decal贴花材质（延迟贴花）

（1）项目设置里开启颜色贴花。因为贴花不支持纯静态光照，不开启就不会显示颜色。

（2）贴花材质制作

（3）场景里添加贴花

（4）使模型不受贴花影响（不接收贴花）

四、呼吸灯制作

1、原理：

用Sine（正弦）函数节点控制自发光明暗波动。

用Time时间节点来控制自发光的明暗波动速度。

2、节点：

Sine（正弦）函数节点：Sine表达式在[0, 1]的输入范围和[-1, 1]的输出范围上反复输出正弦波的值。

Time时间节点：用来向材质（例如，Panner（平移）、Cosine（余弦）或其他时间相关*作）添加经历时间。

取值（0,1），速度由快（0）到慢（1）。

3、节点连接模板：材质参数默认。

六、流水灯制作

1、原理：用Time（时间）节点和Panner（平移）节点控制UV贴图的移动。

2、节点：Panner（平移）

Panner（平移）节点用于创建平移（或移动）纹理的 UV纹理坐标。

速度 X（SpeedX）指定在 U方向上平移坐标的速度。

速度 Y（SpeedY）指定在 V方向上平移坐标的速度。

3、节点连接模板：材质参数默认。

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ue4材质蓝图

ue4

材质

二、UE4大楼玻璃反射怎么调

如需添加玻璃折射，应控制材质应用场合。

在非光追模式下，引擎的渲染方式为截图后计算折射。这意味着使用了折射以后总是在某些角度会观察到画面失真的情况（画面截取）透过有折射效果的半透明材质，去观察使用了半透明材质的物体，折射效果并不会起任何作用，即相当于没有折射。非光追下的折射效果有很大的局限性，应该尽量避免使用。如果效果需要添加折射，则应控制材质的应用场合。如根据实际应用场景调整折射率，同时使用多个半透明介质需控制视线重叠的bug等。

三、ue5出了还有必要学ue4么

有必要，虽说UE5是新的软件版本，但是从主体架构来看UE5其实是UE4的版本延续，UE5相当于是UE4的迭代版本，底层逻辑是不变的，就是更新了一些新的功能，基本的模块还是一样的，所以学习UE5的话也可以从UE4开始学起哇。

UE5可以看成是UE4的一次较大的版本更新。

因为UE5的主体架构都是延续UE4目前的版本，并且兼容UE4的老项目。

UE5相较于UE4更新了两大模块，一个是“Lumen”一个是“Nanite”。

前者不用场景预渲染，就可以达到类似于光线追踪的效果，并且是实时的。所以全局光照可以随着时间的流失和环境的变化，光照阴影和反射处理都很棒。

后者可以在模型制作过程中不需要考虑节约面数，做法线贴图，低面模型之类的会更加方便。

虽然UE5是一个新的版本，但是官方也说了UE5可以看成是UE4的一次较大的版本更新，主体架构都是延续UE4目前的版本，并且兼容UE4的老项目。所以不论是学UE4还是学UE5都要从基础开始学起哦。

四、ue4反射球渲染不出来效果

因为Reflection Capture的范围无效，物体在渲染时只取离它近的那一个，也导致在场景制作过程中，需要区分室内室外，楼上楼下，多变的环境氛围时工作流几乎不可能实现，因为无法精确控制范围。这个问题对于想要制作高品质游戏场景来说，说致命并不为过。

在场景和TA的强烈要求下，我们在移动端修复了Reflection Capture的作用范围，想要在移动端让范围起作用，只需要在 FScene::FindClosestReflectionCapture里查找和物体包围盒相交的的Reflection Capture并处理好Mo**lebasepass的ShaderBinding参数设定即可。

Skylight和Reflection Capture亮度不一样的问题，是因为Skylight的cubemap在渲染时直接使用的是cubemap的原始亮度，而Reflection Capture在渲染时亮度经过了缩放（大部分时候，这个缩放值都是小数，也就是说：它都会变暗）。

拓展资料：

这个值由ReflectionEnvironmentRoughnessMixingScaleBiasAndLargestWeight的x、y及当前像素的Roughness值来确定。

这一个变量的命名和原始的注释非常迷惑，按主流的说法，它该叫 Normalized Cubemap，其作用是把当前IBL的间接漫反射亮度缩放到和从Lightmap或SH（ILC)中接收到的间接GI亮度一致。